- 科学出版社
- 9787030860217
- 1版
- B5
- 2026-07
作者简介
内容简介
先进光刻机是制造高端芯片的利器，只有少数国家掌握先进光刻设备的研制和高端芯片的制造。本书遵循国际半导体协会光刻技术发展路线图，结合作者20余年从事先进光刻机曝光系统的研究，重点介绍光刻28nm～14nm～7nm～5nm技术节点相关的深紫外和极紫外光刻机曝光系统设计研制技术，主要包括以下内容：光刻机发展历程以及深紫外/极紫外光刻机曝光系统光学设计的发展历程；光刻机曝光系统光学设计基础；浸没式深紫外光刻机物镜系统光学设计基础、方法与系统设计；深紫外光刻机照明系统光学设计基础、方法与系统设计；极紫外光刻机匀倍率/变倍率物镜系统光学设计基础、方法与系统设计；极紫外光刻机匀倍率/变倍率照明系统光学设计基础、方法与系统设计。
