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流体辅助微纳抛光原理与技术

￥98.00定价

作者：程灏波

出版时间：2023-01

出版社：科学出版社

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基本信息评价

出版社：科学出版社
ISBN：9787030405210
版次：1版
图书编号：416650
装帧：平装胶订
开本：B5
出版时间：2023-01
页数：252
中图分类编号：TG580.692

内容简介

本书详细阐述了适用于精密光学元件制造的流体辅助微纳抛光原理与技术，针对于每一种工艺方法进行了全方位的描述，涉及起源与发展、原理、优缺点、具体的加工设备以及相关的工艺。《BR》　　全书分为9章，第1章对光学加工进行了综述，其他章节分别介绍了磁介质辅助加工技术、磁流变抛光技术、电流变抛光技术、气射流抛光技术、水射流抛光技术、磁射流抛光技术、浮法抛光技术、化学抛光。