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薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术

￥78.00定价

作者：陈吉堃

出版时间：2022-04

出版社：科学出版社

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基本信息评价

出版社：科学出版社
ISBN：9787030699152
版次：31
图书编号：416243
装帧：平装胶订
开本：B5
出版时间：2022-04
页数：156
中图分类编号：O

内容简介

低温等离子体被广泛应用于脉冲激光沉积、磁控溅射、等离子体增强化学气相沉积等现代半导体薄膜真空沉积技术中，并承担着薄膜组分物质输运、薄膜形核与生长动力学调控等关键性角色。由于等离子体性质是联系薄膜真空沉积条件与沉积性能的关键性纽带，以对等离子体性质的表征与探测为突破口并建立其与薄膜沉积条件和性能之间的基础关系，有助于从理论角度为薄膜沉积条件的设计与动力学过程优化提供依据。本书结合作者的长期相关研究系统介绍了低温等离子体的常用探测方法；重点结合脉冲激光沉积实例对等离子体与背景气体间复杂的物理碰撞与化学反应，以及对薄膜沉积的基础性影响关系作详细介绍。