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出版时间：2023-02

出版社：科学出版社

以下为《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》的配套数字资源，这些资源在您购买图书后将免费附送给您：
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基本信息 评价
  • 科学出版社
  • 9787030482686
  • 02
  • 374133
  • 圆脊精装
  • B5
  • 2023-02
  • 576
  • TN305.7
内容简介
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于 32nm 节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例，这些实例都是经过生产实际验证的，希望能对读者有所启发。
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