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出版时间:2017-06

出版社:哈尔滨工业大学出版社

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  • 哈尔滨工业大学出版社
  • 9787560358024
  • 1-1
  • 73601
  • 48214150-4
  • 2017-06
  • 工学
  • 材料科学与工程
  • TB383
  • 材料
  • 本科 研究生(硕士、EMBA、MBA、MPA、博士)
内容简介

Ⅲ-Ⅴ氮化物属于第三代半导体,具有独特的性能及应用领域,现在得以广泛应用的蓝光LED就是以氮化镓为基材制备出来的。本书内容主要是Ⅲ-Ⅴ氮化物纳米材料的研究,包括零维量子点的制备及性能,一维纳米材料的制备及性能,纳米阵列的制备及性能,以及对于Ⅲ-Ⅴ氮化物的理论模拟研究等。

目录
目录
第1章      
Ⅲ-Ⅴ氮化物半导体材料简介
第2章      
气相反应制备GaN纳米线的催化效应
第3章      
GaN纳米带和纳米带环的生长与形成机理
第4章      
碳热辅助法控制生长GaN低维结构
第5章      
定向排列的孪晶GaN纳米线的制备与表征
第6章      
GaN纳米柱阵列的制备及表征
第7章      
Fe、Co掺杂GaN纳米线的制备及性能研究
第8章      
GaN及其稀磁半导体纳米晶的制备与性能研究
第9章      
GaN纳米晶体及其复合材料的制备及性能
第10章   
GaN的理论模拟研究
第11章   
AIN纳米结构的可控制备与表征
第12章   
单晶InN纳米线的制备及表征
第13章   
InN及其稀磁半导体纳米晶的制备与性能研究
参考文献
名词索引