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冷分子物理与技术（下册）

定价：￥288.00

作者：印建平

出版时间：2026-05

出版社：科学出版社

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基本信息评价

出版社：科学出版社
ISBN：9787030836335
版次：1版
开本：B5
出版时间：2026-05

作者简介

（1） 1999-02 至 2003-11，北京大学，量子电子学，博士
（2） 1990-02 至 1993-06，中国科学院上海光学精密机械研究所，量子光学，硕士
（3） 1980-03 至 1983-06，苏州大学，物理学，学士（1） 2002-02 至今，华东师范大学，精密光谱科学与技术国家重点实验室副主任，教授
（2） 1995-05 至 2002-01，苏州大学，分析测试中心，研究员
（3） 1992-05 至 1995-04，苏州大学，物理系，副研究员
（4） 1987-05 至 1992-04，苏州大学，物理系，讲师
（5） 1980-02 至 1987-04，苏州大学，物理系，助教原子分子与光物理冷原子/分子的磁、光操控及其原子光学研究，教育部自然科学二等奖

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内容简介

冷分子物理与技术是一门研究冷分子实验制备、分子激光冷却、磁光囚禁与操控的基本原理与技术，以及基础物理问题与技术应用的新兴学科。本书主要介绍冷分子物理与技术的基本原理、技术方案与实验结果，以及其研究进展。全书分上下两册，共16章，下册为第12～16章，主要包括分子冷却、减速与速度滤波中的一些基本物理问题，分子激光冷却与磁光囚禁中的一些基本物理问题，冷分子物理（冷碰撞物理、冷化学物理、单分子物理、精密测量物理、量子兼并与多体物理问题等）及其基础研究，冷分子技术（分子干涉技术、冷分子精密光谱技术、暗物质探测技术、量子计算与量子模拟、量子传感与计量技术、冷分子光钟技术、集成分子芯片技术等）及其应用研究；最后一章是总结与展望，包括冷分子研究的发展趋势与拟解决的关键科学与技术问题、冷分子或超冷分子的技术应用等。